A、施加顯象劑的時(shí)間
B、施加顯象劑到開(kāi)始觀察的時(shí)間
C、從顯象劑干燥到開(kāi)始觀察的時(shí)間
D、施加顯象劑到觀察結(jié)束的時(shí)間
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A、10℃
B、20℃
C、30℃
D、40℃
A、2000/2Л[A/m]
B、1500/2Л[A/m]
C、1000/2Л[A/m]
D、500/2Л[A/m]
A、磁場(chǎng)的方向
B、磁場(chǎng)的定量大小
C、磁粉的磁性
D、磁粉的粒度
A、用榔頭敲擊
B、將零件放入直流磁化線圈中通電，并使電流逐漸降低
C、在退磁線圈中放30秒鐘
D、將退磁交流電調(diào)節(jié)到比原來(lái)磁化電流高的安培值，然后使工件從線圈中緩緩?fù)ㄟ^(guò)
A、250～350A
B、500～600A
C、700～900A
D、400～500A
最新試題
用半價(jià)層描述的某種能量的射線是指（）。
磁性成像可分為磁場(chǎng)成像和磁性成像，對(duì)其描述正確的有（）。
目前主要用的是數(shù)顯式黑度計(jì)，主要作用有（）。
下列關(guān)于顯像劑粉末吸附缺陷中滲透劑的說(shuō)法正確的有（）。
確定滲透劑是否具有高的滲透能力的主要參數(shù)有（）。
影響定影的因素主要有（）。
標(biāo)準(zhǔn)試塊具有規(guī)定的（），這是標(biāo)準(zhǔn)試塊的基本要求。
對(duì)底片進(jìn)行評(píng)定時(shí)，首先對(duì)底片進(jìn)行質(zhì)量檢查，不滿足要求的底片不予評(píng)定，質(zhì)量檢查項(xiàng)目有（）。
壓電晶體產(chǎn)生的壓電效應(yīng)主要有（）。
滲透檢測(cè)焊縫，對(duì)焊縫及熱影響區(qū)表面進(jìn)行清理，可以采用（）。