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填空題

刻蝕剖面指的是（），有兩種基本的刻蝕剖面（）刻蝕剖面和（）刻蝕剖面。

答案：被刻蝕圖形的側(cè)壁形狀；各向同性；各向異性

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刻蝕是用（）或（）有選擇地從硅片表面去除不需要材料的工藝過程，其基本目標(biāo)是（）。

答案：化學(xué)方法；物理方法；在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形

隨著銅布線中大馬士革工藝的引入，金屬化工藝變成刻蝕（）以形成一個(gè)凹槽，然后淀積（）來覆蓋其上的圖形，再利用（）把銅平坦化至ILD的高度。

答案：介質(zhì)；金屬；CMP

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