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問答題
【簡答題】與普通濺射法相比，磁控濺射的特點是什么？
答案：
普通濺射法有兩個缺點：一是濺射方法淀積薄膜的速率低；二是所需的工作氣壓較高，這兩者綜合效果是氣體分子對薄膜產(chǎn)生的污染的可...
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問答題
【簡答題】簡述干氧氧化與濕氧氧化各自的特點，通常用哪種工藝制備較厚的二氧化硅層？
答案：
干氧氧化：（優(yōu)）結構致密，表面平整光亮；對雜質掩蔽能力強；鈍化效果好；生長均勻性、重復性好；表面對光刻膠的粘附好，（缺）...
問答題
【簡答題】簡述溝道效應的含義及其對離子注入可能造成的影響如何避免？
答案：
對晶體進行離子注入時，當離子注入的方向與與晶體的某個晶向平行時，一些離子將沿溝道運動，受到的核阻止作用很小，而且溝道中的...
