A.右上1→右上3→右上2
B.右上1→右上2→右上3
C.右上3→右上2→右上1
D.右上2→右上1→右上3
E.右上3→右上1→右上2
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你可能感興趣的試題
A.按正常弧度排列
B.右上1稍偏唇側(cè)排列
C.右上1牙長軸與中線一致
D.右上1顏色白
E.右上1切端應(yīng)輕度腭向與左上1協(xié)調(diào)一致
A.0.5mm
B.1.0mm
C.1.5mm
D.1.8mm
E.2.0mm
A.按正?;《扰帕?br />
B.A1稍偏唇側(cè)排列
C.A1牙長軸與中線一致
D.A1遠(yuǎn)中面應(yīng)向唇側(cè)扭轉(zhuǎn)和B1協(xié)調(diào)一致
E.A1顏色白一些
A.人工牙舌面形態(tài)
B.人工牙唇面形態(tài)
C.人工牙軸向傾斜
D.人工牙扭轉(zhuǎn)
E.人工牙長短和切角
A.回力卡環(huán)
B.桿形卡環(huán)
C.長臂卡環(huán)
D.聯(lián)合卡環(huán)
E.雙臂卡環(huán)
最新試題
前后牙間隔缺牙,可摘義齒修復(fù)時(shí),容易折裂的部位是()。
鑄件研磨、拋光中應(yīng)遵循的原則是()。
制作底冠蠟型的要點(diǎn)中,錯(cuò)誤的是()。
全冠軸面熔模成型后,在齦緣處切去2mm加蠟的主要目的是()。
鑄造網(wǎng)狀連接體用蠟線成形時(shí)要求蠟線直徑為()。
烤瓷修復(fù)體體瓷燒結(jié)前應(yīng)干燥的時(shí)間為()。
在頜托上標(biāo)記口角線時(shí),上下唇應(yīng)當(dāng)()。
非貴金屬基底冠的厚度應(yīng)不低于()。
不會影響瓷層透明度的操作是()。
貴金屬基底冠的的厚度應(yīng)為()。