A.牙冠最突點(diǎn)上
B.牙冠最突點(diǎn)下1.0mm
C.牙冠最突點(diǎn)下0.5mm
D.牙冠最突點(diǎn)上0.5mm
E.牙冠最突點(diǎn)上1.0mm
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A.<0.1mm
B.0.1~0.2mm
C.0.3mm
D.0.4mm
E.>0.4mm
A.上下唇輕輕閉攏
B.微笑
C.大笑
D.大張口
E.張口大笑
A.牙槽嵴豐滿的患者
B.上、下頜位關(guān)系正常的患者
C.咀嚼力屬中等大小的患者
D.較年輕患者
E.頜位關(guān)系異常的患者
A.卡環(huán)間隙預(yù)備不合要求
B.彎制時損傷金屬絲
C.卡環(huán)臂未進(jìn)入倒凹區(qū)
D.卡環(huán)材質(zhì)不好
E.患者使用不當(dāng)
A.唇的長短
B.兩側(cè)口角線的距離
C.面部形態(tài)
D.笑線
E.頜間距離
最新試題
制作底冠蠟型的要點(diǎn)中,錯誤的是()。
不會影響瓷層透明度的操作是()。
全冠熔模要求建立正常的軸面突度,與其目的無關(guān)的是()。
在頜托上標(biāo)記口角線時,上下唇應(yīng)當(dāng)()。
全冠軸面熔模制作時,下頜磨牙頰舌側(cè)最突點(diǎn)在()。
常用于后牙審美性、發(fā)音、舌感良好,利于牙槽嵴粘膜健康、便于清潔的橋體是()。
復(fù)雜洞嵌體熔模制作的最好方法是()。
橋與齦組織接觸面積大,齦面呈凹形的橋體是()。
為了加強(qiáng)全口義齒牙冠的立體感,在制作基托蠟型時可以()。
機(jī)器調(diào)拌石膏時,在真空狀態(tài)下的攪拌時間應(yīng)為()。