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單項選擇題

【A1/A2型題】金瓷基底冠橋進行氧化，是在除氣的基礎上再加熱。至預定終點溫度時在非真空狀態(tài)下應繼續(xù)維持（）

A.1～2分鐘
B.3～5分鐘
C.5～10分鐘
D.10～12分鐘
E.12～15分鐘

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D.50～100μm
E.100～120μm

單項選擇題

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A.15～25μm
B.25～35μm
C.35～50μm
D.50～100μm
E.100～120μm

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