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試件內(nèi)磁感應(yīng)強(qiáng)度一定時(shí),特定位形的表面缺陷自身高度越大,漏磁場(chǎng)強(qiáng)度越小
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試件上表面缺陷形態(tài)一定時(shí),隨著磁感應(yīng)強(qiáng)度的增加,漏磁場(chǎng)強(qiáng)度減小
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試件上表面缺陷形態(tài)一定時(shí),隨著磁感應(yīng)強(qiáng)度的增加,漏磁場(chǎng)強(qiáng)度也增加
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