單項選擇題放射性同位素鈷60是將其穩(wěn)定的同位素鈷59至于核反應(yīng)堆中俘獲（）而發(fā)生核反應(yīng)制成的。
A、電子
B、中子
C、質(zhì)子
D、原子
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1.單項選擇題以相同條件透照某工件，若焦距縮短20%，要達(dá)到同樣的黑度的底片，曝光時間可以減少（）。
A、64%
B、36%
C、20%
D、80%
2.單項選擇題溴化鉀是（）的一種。
A、抑制劑
B、顯影劑
C、加速劑
D、保護(hù)劑
3.單項選擇題顯影液中的抑制劑通常用（）。
A、亞硫酸鈉
B、溴化鉀
C、菲尼酮
D、碳酸鈉
4.單項選擇題溴化鉀在顯影液中的作用是（）。
A、加速顯影作用
B、保護(hù)顯影作用
C、抑制灰霧生成
D、堅膜作用
5.單項選擇題底片對比度與工件對比度和（）有關(guān)。
A、感光度
B、管電流
C、膠片反差系數(shù)
D、以上都對
最新試題
特性是指實體所特有的性質(zhì)，它反映子實體滿足需要的（）
題型：單項選擇題
在聲束垂直試件表面時，所獲得的（）反射波高可能并不是可獲得的最大反射波高。
題型：單項選擇題
對于圓盤形試件，常沿（）在圓面上進(jìn)行掃查。
題型：單項選擇題
渦流檢測輔助裝置的試樣傳動裝置在（）材生產(chǎn)線上的應(yīng)用最為廣泛。
題型：單項選擇題
缺陷檢測即通常所說的渦流探傷主要影響因素包括（）、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率、邊條效應(yīng)、提離效應(yīng)等。
題型：單項選擇題
缺陷愈大，所遮擋的聲束也愈多，底波波高也就愈低，這就有可能用缺陷波高與底波波高之比來表示缺陷的（）
題型：單項選擇題
渦流檢測線圈是在被檢測導(dǎo)電材料或零件表面及近表面激勵產(chǎn)生（）
題型：單項選擇題
渦流檢測線圈的自感式線圈由（）構(gòu)成。
題型：單項選擇題
掃描儀器的掃查的間距通常根據(jù)探頭的最小聲束（），保證兩次掃查之間有一定比例的覆蓋。
題型：單項選擇題
各類渦流檢測儀器的（）和結(jié)構(gòu)各不相同。
題型：單項選擇題