A、顳側(cè)隱形小刻印上方 B、顳側(cè)隱形小刻印下方 C、鼻側(cè)隱形小刻印上方 D、鼻側(cè)隱形小刻印下方
A、拉力 B、壓力 C、應(yīng)力 D、彈力
A、從反面再次打孔 B、從反面少許擴孔 C、矯正鉆孔角度 D、矯正鉆孔位置