A.Cu-Sn-Al
B.AI-Sn-Cu
C.Cu-Al-Sn
D.Sn-Cu-Al
E.A1-Cu-Sn
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.電離室
B.正比計(jì)數(shù)器
C.閃爍探測(cè)器
D.半導(dǎo)體探測(cè)器
E.GM計(jì)數(shù)器
A.開(kāi)野與楔形野的數(shù)據(jù)都必須輸入
B.每個(gè)射野的輸出劑量率
C.典型的光子射野數(shù)據(jù)是中心軸PDD和不同深度的OAR
D.射野輸出因子
E.使用電離室測(cè)量電子束PDD應(yīng)進(jìn)行轉(zhuǎn)換
A.越清晰
B.質(zhì)量越高
C.不受影響
D.對(duì)比度越低
E.對(duì)比度越高
A.锎—225
B.鍶—90
C.銥—192
D.銫—137
E.碘—125
A.蓋格計(jì)數(shù)器
B.指形電離室
C.平行板電離室
D.半導(dǎo)體探頭
E.膠片
最新試題
低LET射線照射哺乳動(dòng)物細(xì)胞存活曲線在低劑量段有肩區(qū),提示()。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
源皮距越小,百分深度劑量越大。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒(méi)有確定的射程。