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純凈的半導(dǎo)體是一種有用的半導(dǎo)體。
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在硅中固態(tài)雜質(zhì)的熱擴(kuò)散需要三個(gè)步驟:預(yù)淀積、推進(jìn)和激活。
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晶體管的源漏區(qū)的摻雜采用自對(duì)準(zhǔn)技術(shù),一次摻雜成功。
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