多項(xiàng)選擇題磁粉探傷時(shí)，發(fā)紋的磁粉聚集圖像呈（）。
A.清晰
B.密集
C.細(xì)長(zhǎng)
D.平直
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1.多項(xiàng)選擇題磁懸液的噴淋應(yīng)做到（）。
A.緩流
B.均勻
C.全面覆蓋探傷部位
D.濕潤(rùn)分散
2.多項(xiàng)選擇題觀察磁痕時(shí)，應(yīng)在各檢查部位標(biāo)注起始標(biāo)記“—”，確保各檢查部位轉(zhuǎn)動(dòng)一周以上，所有探傷部位不漏檢。起始標(biāo)記“—”涂打位置：觀察（）外露部位磁痕顯示時(shí)，在左端車輪輪轂外側(cè)涂打。
A.左端軸頸
B.防塵板座
C.輪座鑲?cè)氩客鈧?cè)
D.輪座鑲?cè)氩績(jī)?nèi)側(cè)
3.多項(xiàng)選擇題（）存在長(zhǎng)度大于25mm的縱向發(fā)紋時(shí)判定四級(jí)修。
A.軸頸
B.車軸斷面
C.車軸中央
D.防塵板座
4.多項(xiàng)選擇題車軸各部位不得存在（）。
A.橫向裂紋
B.橫向發(fā)紋
C.縱向裂紋
D.縱向發(fā)紋
5.多項(xiàng)選擇題磁粉探傷時(shí)，發(fā)紋的磁痕特征呈直線或微彎的細(xì)線狀，磁粉聚集的圖像規(guī)則呈（）。
A.清晰
B.密集
C.細(xì)長(zhǎng)
D.平直
最新試題
最容易發(fā)生康普頓效應(yīng)的射線能量為（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
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二次波檢測(cè)是一種特殊的檢測(cè)工藝，以下關(guān)于二次波檢測(cè)的做敘述，哪一條是錯(cuò)誤的（）
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對(duì)于鉬靶X射線管，在管電壓低于（）千伏時(shí)是不會(huì)產(chǎn)生特征X射線的。
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最容易發(fā)生光電效應(yīng)的射線能量為（）
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通常所謂20KV的X射線是指（）
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在工作中超聲波檢測(cè)儀屏幕上可能會(huì)出現(xiàn)（）等信號(hào)波，需要仔細(xì)判別。
題型：多項(xiàng)選擇題
以下耦合劑中，可用于粗糙表面檢測(cè)的是（）
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一個(gè)均勻的輻射光束強(qiáng)度為I0的射線，穿過(guò)一個(gè)厚度為X的物質(zhì)，其強(qiáng)度降低量為I，可用I=-μI0X表示，μ為比例常數(shù)，此式代表什么現(xiàn)象（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題