A.安培數(shù)
B.安匝數(shù)
C.瓦特?cái)?shù)
D.歐姆數(shù)
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A.熒光磁粉比非熒光磁粉對(duì)缺陷的檢出率高
B.要用與探傷面形成低對(duì)比度的磁粉
C.磁懸液就是磁粉探傷用的水液或油液
D.磁粉越細(xì)越好
A.檢測(cè)表面缺陷
B.檢測(cè)近表面缺陷
C.以上都對(duì)
D.以上都不對(duì)
A.效率高
B.效率低
C.能用于復(fù)合磁化
D.靈敏度高
A.電磁軟鋼與低碳鋼只能用連續(xù)法
B.連續(xù)法必須要將工件磁化到飽和
C.通電時(shí)間比剩磁法長(zhǎng)
D.熱處理后的彈簧鋼、工具鋼、軸承鋼只能用連續(xù)法檢查
A.狹窄的磁滯回線
B.低磁導(dǎo)率
C.高剩磁
D.高矯頑力
最新試題
底片的最佳黑度值與觀片燈的亮度有關(guān),觀片燈亮度改變,最佳黑度值也將改變。
調(diào)節(jié)掃描速度時(shí),應(yīng)使()同時(shí)對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)的水平刻度值。
以下試塊中,能用于測(cè)定縱波直探頭分辨力的是()
對(duì)于平行于檢測(cè)面的缺陷,一般采用()檢測(cè)。
康普頓效應(yīng)對(duì)射線檢測(cè)的影響包括()
當(dāng)射線穿透任何一物體時(shí),部分被物體吸收,部分則穿透該物體,還有一部分則被構(gòu)成該物的原子內(nèi)電子向各方面散射,此散射為()
二次波檢測(cè)是一種特殊的檢測(cè)工藝,以下關(guān)于二次波檢測(cè)的做敘述,哪一條是錯(cuò)誤的()
通常所謂20KV的X射線是指()
射線照片上細(xì)節(jié)影像的可識(shí)別性主要決定于()
最容易發(fā)生光電效應(yīng)的射線能量為()