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一塊半導(dǎo)體壽命τ=15µs，光照在材料中會(huì)產(chǎn)生非平衡載流子，光照突然停止30µs后，其中非平衡載流子將衰減到原來的（）。

改良西門子法的顯著特點(diǎn)不包括（）

只涉及到大約一個(gè)原子大小范圍的晶格缺陷是（）。 

在通常情況下，GaN呈（）型結(jié)構(gòu)。

硅片拋光在原理上不可分為（）

表面態(tài)中性能級(jí)位于費(fèi)米能級(jí)以上時(shí)，該表面態(tài)為（）；

屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）

下列哪個(gè)不是單晶常用的晶向（）

最有效的復(fù)合中心能級(jí)位置在Ei附近；最有利陷阱作用的能級(jí)位置在（）附近，常見的是少子陷阱。

熱處理中氧沉淀的形態(tài)不包括（）