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把磷化鎵在氮氣氛中退火，會有氮取代部分的磷，這會在磷化鎵中出現(xiàn)（）。

表面態(tài)中性能級位于費米能級以上時，該表面態(tài)為（）；

影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是（）①原材料中雜質(zhì)的種類和含量；②雜質(zhì)的分凝效應(yīng)；③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng)；④生長過程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污；⑤加入雜質(zhì)量；

如果雜質(zhì)既有施主的作用又有受主的作用，則這種雜質(zhì)稱為（）。

用能量（）禁帶寬度的光子照射p-n結(jié)會產(chǎn)生光生伏特效應(yīng)。

CZ法的主要流程工藝順序正確的是（）

改良西門子法的顯著特點不包括（）

下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量（）

直拉法生長單晶硅拉晶過程有幾個主要階段？（）

只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是（）。