A、棱柱體劈裂抗拉強(qiáng)度試驗(yàn)方法
B、立方體劈裂抗拉強(qiáng)度試驗(yàn)方法
C、圓柱體劈裂抗拉強(qiáng)度試驗(yàn)方法
D、圓球體劈裂抗拉強(qiáng)度試驗(yàn)方法
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A、棱柱體靜力受壓彈性模量試驗(yàn)方法
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D、圓柱體抗壓強(qiáng)度試驗(yàn)方法
A、3個(gè)彈性模量試驗(yàn)試件中，有2個(gè)試件的軸心抗壓強(qiáng)度值與用以確定試驗(yàn)控制荷載的軸心抗壓強(qiáng)度值的差值超過后者的20%時(shí)，此次試驗(yàn)的結(jié)果無效。
B、把3個(gè)試件測值的算術(shù)平均值作為該組試件的彈性模量值總是無誤的。
C、3個(gè)彈性模量試驗(yàn)試件中，有2個(gè)試件的軸心抗壓強(qiáng)度值與用以確定試驗(yàn)控制荷載的軸心抗壓強(qiáng)度值的差值超過后者的15%時(shí)，此次試驗(yàn)的結(jié)果無效。
D、3個(gè)彈性模量試驗(yàn)試件中，僅有1個(gè)試件的軸心抗壓強(qiáng)度值與用以確定試驗(yàn)控制荷載的軸心抗壓強(qiáng)度值的差值超過后者的20%時(shí)，則按另2個(gè)試件的彈性模量測值的算術(shù)平均值作為該組試件的彈性模量值。
A、＜C30強(qiáng)度等級(jí)的砼卸荷速度取每秒0.3～0.5MPa
B、≥C30且＜C60強(qiáng)度等級(jí)的砼卸荷速度取每秒0.5～0.8MPa
C、≥C60強(qiáng)度等級(jí)的砼卸荷速度取每秒0.8～1.0MPa
D、A、B、C選項(xiàng)都對(duì)
A、＜C30強(qiáng)度等級(jí)的砼加荷速度取每秒0.3～0.5MPa
B、≥C30且＜C60強(qiáng)度等級(jí)的砼加荷速度取每秒0.5～0.8MPa
C、≥C60強(qiáng)度等級(jí)的砼加荷速度取每秒0.8～1.0MPa
D、A、B、C選項(xiàng)都對(duì)
最新試題
如在半導(dǎo)體的禁帶中有一個(gè)深雜質(zhì)能級(jí)位于禁帶中央，則它對(duì)電子的俘獲率（）空穴的俘獲率。
載流子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生擴(kuò)散電流，漂移運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生（）電流。
與半導(dǎo)體相比較，絕緣體的價(jià)帶電子激發(fā)到導(dǎo)帶所需的能量（）
只涉及到大約一個(gè)原子大小范圍的晶格缺陷是（）。
那個(gè)不是影響直拉單晶硅的電阻率均勻性的因素（）
下列是晶體的是（）。
影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是（）①原材料中雜質(zhì)的種類和含量；②雜質(zhì)的分凝效應(yīng)；③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng)；④生長過程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污；⑤加入雜質(zhì)量；
直拉法生長單晶硅拉晶過程有幾個(gè)主要階段？（）
光子傳感器是利用某些半導(dǎo)體材料在入射光的照下，產(chǎn)生（）.使材料的電學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化。通過測量電學(xué)性質(zhì)的變化，可以知道紅外輻射的強(qiáng)弱。光子效應(yīng)所制成的紅外探測器。
最有效的復(fù)合中心能級(jí)位置在Ei附近；最有利陷阱作用的能級(jí)位置在（）附近，常見的是少子陷阱。