A.1%
B.2%
C.3%
D.4%
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.2皮
B.3皮
C.4皮
D.5皮
A.3d
B.5d
C.8d
D.10d
A.1：1水泥砂漿
B.1：2水泥砂漿
C.1：3水泥砂漿
D.1：4水泥砂漿
A.1%
B.2%
C.3%
D.4%
A.切割機(jī)的鋸切深度不應(yīng)小于240mm
B.機(jī)架應(yīng)有足夠的強(qiáng)度、剛度、穩(wěn)定性
C.切割機(jī)的鋸切深度不應(yīng)小于370mm
D.切割機(jī)宜配備水冷卻系統(tǒng)
最新試題
光子傳感器是利用某些半導(dǎo)體材料在入射光的照下，產(chǎn)生（）.使材料的電學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化。通過測量電學(xué)性質(zhì)的變化，可以知道紅外輻射的強(qiáng)弱。光子效應(yīng)所制成的紅外探測器。
下列哪一個(gè)遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量（）
直拉法生長單晶硅拉晶過程有幾個(gè)主要階段？（）
原子晶體中的原子與原子之間的鍵能隨原子間距的而迅速（）
多晶硅的生產(chǎn)方法主要包含：（）1）冶金法2）硅烷法3）重?fù)焦鑿U料提純法4）西門子改良法5）SiCl4法6）氣液沉淀法7）流化床法
下列是晶體的是（）。
雜質(zhì)半導(dǎo)體中的載流子輸運(yùn)過程的散射機(jī)構(gòu)中，當(dāng)溫度升高時(shí)，電離雜質(zhì)散射的概率和晶格振動聲子的散射概率的變化分別是（）
熱處理中氧沉淀的形態(tài)不包括（）
屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）
與半導(dǎo)體相比較，絕緣體的價(jià)帶電子激發(fā)到導(dǎo)帶所需的能量（）